The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Boeken - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662570265 - 7 juni 2018
Indien omslag en titel niet overeenkomen, is de titel correct

The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

Zhiqiang Li

Kerstcadeautjes kunnen tot en met 31 januari worden ingewisseld
Voeg toe aan uw iMusic-verlanglijst

The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

59 pages, 49 Illustrations, color; 3 Illustrations, black and white; XIV, 59 p. 52 illus., 49 illus.

Media Boeken     Paperback Book   (Boek met zachte kaft en gelijmde rug)
Vrijgegeven 7 juni 2018
ISBN13 9783662570265
Uitgevers Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Pagina's 59
Afmetingen 124 g   (Gewicht (geschat))

Alles tonen

Meer door Zhiqiang Li