Vertel uw vrienden over dit artikel:
Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies Mohamed Elgamel 1st Ed. Softcover of Orig. Ed. 2006 edition
Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies
Mohamed Elgamel
Presents a range of CAD algorithms and techniques for synthesizing and optimizing interconnect Provides insight & intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high complexity integrated circuits
160 pages, 1, black & white illustrations
| Media | Boeken Paperback Book (Boek met zachte kaft en gelijmde rug) |
| Vrijgegeven | 29 oktober 2010 |
| ISBN13 | 9781441938442 |
| Uitgevers | Springer-Verlag New York Inc. |
| Pagina's | 160 |
| Afmetingen | 156 × 234 × 8 mm · 235 g |
| Taal en grammatica | Engels |
Meer van dezelfde uitgever
Bekijk alles van Mohamed Elgamel ( bijv. Hardcover Book en Paperback Book )