Vertel uw vrienden over dit artikel:
Advances in CMP Polishing Technologies Toshiro Doi
Prijs
€ 209,99
Besteld in een afgelegen magazijn
Verwachte levering 11 - 25 nov.
Kerstcadeautjes kunnen tot en met 31 januari worden ingewisseld
Ontvang meldingen over nieuwe releases van Toshiro Doi
Onze klanten zeggen:
Voeg toe aan uw iMusic-verlanglijst
Advances in CMP Polishing Technologies
Toshiro Doi
CMP and polishing are the most precise processes used to finish the surfaces of mechanical and electronic or semiconductor components. This title presents the developments and technological innovations in the field - making R&D accessible to the wider engineering community.
330 pages, 1, black & white illustrations
| Media | Boeken Hardcover Book (Boek met harde rug en kaft) |
| Vrijgegeven | 6 december 2011 |
| ISBN13 | 9781437778595 |
| Uitgevers | William Andrew Publishing |
| Pagina's | 328 |
| Afmetingen | 160 × 239 × 23 mm · 544 g |
| Taal en grammatica | Engels |
| Uitgever | Doi, Toshiro (Professor of Manufacturing Processes, Department of Mechanical Engineering, Kyushu University, Japan) |
| Uitgever | Kurokawa, Syuhei |
| Uitgever | Marinescu, Ioan D. (Professor and Director, Precision Micromachining Center, The University of Toledo, Toledo, OH, USA) |
